Аппарат колонный
Колонные аппараты применяют для процессов ректификации, абсорбции, мокрой очистки газов для некоторых химических процессов, т.е. для процессов взаимодействия между жидкой и газовой фазой.
назначение
предназначены для проведения тепло- и массообмена (ректификация, абсорбция, десорбция) при температуре не ниже минус 400С и не выше +2000С при избыточном давлении :
- до 1 МПа (10 кгс/см2) – для аппаратов с регулярной насадкой;
- до 1,6 МПа (16 кгс/см2) – для аппаратов с насыпной насадкой;
- до 2,5 МПа (25 кгс/см2) - для аппаратов с тарелками.
Тип тарелки и насадки определяет заказчик в зависимости от технологического процесса, давления и температуры.
Аппараты устанавливаются на открытой площадке со средней температурой наиболее холодной пятидневки до минус 450С.
Схема основных типов колонных аппаратов
| 1 - корпус колонны 2 - полотно тарелки 3 - переточное устройство 4 - опорная решетка |
5 - насадка 6 - распределитель 7 - трубная решетка 8 - трубка |
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
| Наименование параметров | Значение |
|---|---|
| Максимальное давление | 0,07-25 |
| Рабочая температура | от-50 до+180 |
| Рабочая среда | содержанием H2S и С02 до 6%; СУГ; минеральные масла; вода. |
